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微调机
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微调机
产品描述
一、设备简介
本设备是为了调整晶体谐振器的频率而开发,由上下料(上下料自带电清洗功能)、准备室和处理室两个舱室构成,采用单侧进单侧出的方式。搭载晶体的载盘在大气侧经过电清洗后设置到规定位置后,在准备室进行真空排气,运送到处理室,在处理室用离子枪产生的氩Ar离子蚀刻金属电极膜。同时用网络分析仪计测和控制经过蚀刻后频率的变化调整到目标频率。频率调整结束后的载盘被搬送到准备室,和待处理的载盘调换后被搬运到两舱室外运送回提篮。
二、设备特点
1. 处理室不开放大气而更换载盘,因此可以连续运行离子枪,延长了保养周期
2. 离子枪具有24个离子束,可同时处理24颗晶体
3. 测量系统配备了4台网络分析仪,每台可切换6个晶体进行频率控制
4. 真空排气系统配备分子泵
5. 可测量范围:4MHZ~200MHZ
6. 调整范围:10MHZ~80MHZ
7. 调整精度:±3ppm达到99%以上(在晶体性能良好的情况下)
8. 目前设备能做振荡器与谐振器,最小可做TCXO1210
三、设备参数(通用型)
| 设备参数 | ||||||
| 项目 | 单位 | 参数 | ||||
| 效率 | 秒/颗 | 约0.5S/颗 | ||||
| 整机尺寸长宽高(长x宽x高) | mm | 2060mmX1300mmX1680mm(不含三色灯) | ||||
| 整机重量(约) | kg | 1200 | ||||
| 电源要求 | AC380V 50/60Hz 5KW | |||||
| 压缩空气要求 | 0.55-0.65 Mpa 洁净空气 | |||||
| 氮气要求 | 0.10-0.25 Mpa | |||||
| 氩气要求 | 0.05-0.15 Mpa | |||||
| 供水要求 | 要求纯水 | |||||
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